中新社香港十二月二十九日电 台北消息：台湾“经济部投资审议委员会”二十九日决定，将现行准许赴大陆投资的八英寸晶圆制程技术，由零点二五微米放宽至零点一八微米。
“中央社”报道，力晶半导体公司及茂德科技二家厂商对此均表示欢迎，并将尽速提出申请。
力晶发言人谭仲民表示，公司将尽速提出申请赴大陆投资零点一八微米制程；只是大陆设厂计划，公司仍在评估赴大陆生产的产品线，待产品线决定后，才会进一步敲定设厂地点。
茂德副总经理彭卓兰说，公司将会依规定尽速提出申请，预期将有助于提升公司未来在大陆市场的竞争力。
彭卓兰表示，重庆是茂德大陆设厂的首选地点，至于设厂时程，还有相关细节等问题，需与当地进行协商。
本月二十一日，台湾《联合报》一篇题为《错误的政策比贪渎更严重》的社论中说，由于台湾拖延两年核准，大陆晶圆厂迅速崛起，大陆中芯晶圆厂已以零点一八及零点一三微米制造为主，台商去大陆的零点二五微米制程，根本没有竞争力。
